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太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機,采用飛秒激光刻蝕設(shè)備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉等導(dǎo)電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細(xì)線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。
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太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機,采用飛秒激光刻蝕設(shè)備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細(xì)線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。
同時,適用于其他多層材料超細(xì)線寬激光刻蝕加工,如不銹鋼網(wǎng)上的PI膜刻蝕、玻璃基材上PI膜刻蝕、不銹鋼光柵劃線等應(yīng)用。
設(shè)備簡介
設(shè)備采用固體激光器,激光波長1030nm,適合對導(dǎo)電玻璃與鍍層進(jìn)行精細(xì)刻線;采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導(dǎo)入CAD 數(shù)據(jù)進(jìn)行激光刻蝕,操作簡單,方便快捷;通過軟件實時調(diào)節(jié)振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設(shè)計,加上真空吸附托盤裝置,能有效地解決激光刻蝕機在加工運行中的平穩(wěn)性;采用獨特除塵系統(tǒng)設(shè)計,能保證玻璃與工作平面的清潔,保證激光刻蝕過程中無殘留。
設(shè)備集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機電高技術(shù)于一體,具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征??纱蠓秶鷥?nèi)進(jìn)行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,并且能夠保證很高的產(chǎn)能,是一個可靠、穩(wěn)定和具有高性能價格比的產(chǎn)品。
適用行業(yè)
玻璃、硅片、陶瓷、PET薄膜等基底上鍍膜激光刻蝕,常用于觸摸屏、光伏太陽能電池、電致色玻璃、調(diào)光玻璃、發(fā)光玻璃、其它顯示屏等行業(yè)激光刻蝕加工。
整體說明
主要構(gòu)成:激光器、光路系統(tǒng)、運動系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、 定位系統(tǒng)、 抽塵系統(tǒng)、 真吸附空系統(tǒng)等組成。
主要技術(shù)參數(shù)
型號 | ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機 | |
激光器 | 飛秒、皮秒激光器,波長1030nm/532nm | 納秒激光器,波長1064nm |
加工幅面 | 1200*600mm/600*500mm/500*400mm(可定制加工幅面) | |
聚焦光斑 | <10μm | <20μm |
激光器頻率調(diào)節(jié)范圍 | 20-5000KHz | 100-500KHz |
刻蝕最小線寬 | <10 um | <20μm |
(最大可以去除95%以上的氧化物鍍層) | ||
整機精度 | ±15μm | ±20μm |
最小線間距 | <10μm | <20μm |
工作臺定位精度 | ±2um | |
工作臺重復(fù)精度 | ±1um | |
CCD自動定位精度 | ±2um | |
刻蝕速度 | <4000mm/s | |
設(shè)備尺寸 | 1950mmL×1700mmW×1960mmH(根據(jù)實際尺寸而定) | |
設(shè)備重量 | 3500kg | |
功率消耗 | <3000W | |
可處理文件格式 | 標(biāo)準(zhǔn)CAD2004版DXF文件 |
注:根據(jù)實驗室前期實驗性階段需要,武漢元祿光電針對性開發(fā)出了實驗室階段小型激光刻蝕機,適用于100*100mm以下導(dǎo)電玻璃激光刻蝕、劃線應(yīng)用,歡迎前來咨詢了解。
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