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ITO是一種N型的氧化物半導體，中文名為氧化銦錫，因為其導電性、透光率較好常用于玻璃或柔性材PET基材上的導電氧化物，用于觸摸屏、光伏、冷光片、傳感器、電致色玻璃、發(fā)光玻璃等行業(yè)。通常情況下利用平面磁控技術(shù)在玻璃或柔性PET等材料上濺射ITO材料，并通過高溫退火處理得到ITO鍍膜玻璃或薄膜材料。

ITO導電玻璃

而ITO鍍膜玻璃或薄膜原材料由于是一整塊都是ITO材料，應用到觸控面板、顯示面板、太陽能電池、微電子、光電子等領(lǐng)域中就需要對其進行加工，形成特定線路圖，而對ITO材料的初加工工藝成了關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

ITO鍍膜玻璃或薄膜的材料線路成型加工主要有黃光曝光、化學蝕刻、等離子蝕刻以及激光刻蝕設備。

黃光曝光加工效果好，速度快，缺點是需要用到掩膜版，ITO線路要求有的多達數(shù)千種，每一種都需要掩膜版，這對設計加工的成本太高，就是存儲也會浪費大量的空間，因此黃光曝光工藝目前只保留在特殊要求領(lǐng)域中使用。

黃光曝光設備（圖片源自網(wǎng)絡）

化學蝕刻加工速度高，效果好，缺點是大量的化學試劑對人體和環(huán)境會造成污染，特別是在當今社會中人與自然的協(xié)調(diào)愈加重要，環(huán)境問題已加以限制，并控制在一定范圍內(nèi)。當然化學蝕刻也有技術(shù)工藝缺點隨著下游產(chǎn)品對ITO鍍膜材料的要求越來越高，超細線寬的ITO材料化學蝕刻工藝已感到力不從心。

化學刻蝕設備（圖片源自網(wǎng)絡）

等離子蝕刻效果和速度都非常理想，不過工藝流程較為復雜，灑家也不太明白具體的工藝流程，想想晶圓的制作流程，想來大家也知道了其復雜程度。不過相比較于ITO鍍膜材料的加工，等離子蝕刻設備還是小兒科了，很容易實現(xiàn)，也有簡易版的適用于ITO材料，相比較而言等離子刻蝕的成本相對較高。

等離子刻蝕設備（圖片源自網(wǎng)絡）

激光刻蝕設備是目前的主流ITO刻蝕工藝，適用于柔性pet以及玻璃上的導電ITO激光刻蝕，優(yōu)點是工藝流程簡單，導入CAD圖紙即可相機自動定位加工，一次性成型，對環(huán)境無污染，無掩膜版，只用消耗電力，并且易于自動化，加工尺寸可超過3m以上，優(yōu)勢顯而易見。目前ITO材料刻蝕的線寬要求越來越高，傳統(tǒng)的納秒紅外激光刻蝕機的最小線寬只能做到20微米，而隨著激光技術(shù)的進步，ITO材料刻蝕最小線寬可做到10微米以下，可保持與ITO材料應用行業(yè)需求的發(fā)展同步。

ITO激光刻蝕設備

ITO鍍膜玻璃、薄膜刻蝕工藝是太陽能電池、觸摸屏、光電子等行業(yè)領(lǐng)域中重要工藝環(huán)節(jié)，要保證生產(chǎn)效率、生產(chǎn)成本、環(huán)境保護，ITO激光刻蝕機必不可少，武漢元祿光電專業(yè)生產(chǎn)激光刻蝕設備，擁有豐富的經(jīng)驗、過硬的技術(shù)，歡迎大家前來洽談了解。

推薦設備：導電玻璃激光刻蝕機