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發(fā)布時間:2020-04-15 來源:元祿光電
導(dǎo)電玻璃是指透明導(dǎo)電氧化物,如氧化銦錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等,部分為銅、鋁、金等材料,以玻璃為基材,通過磁控濺射等方式將導(dǎo)電材料生長在玻璃上的產(chǎn)品,常用于觸摸屏、光伏太陽能電池、戶外顯示、航空航天等諸多領(lǐng)域當(dāng)中。
導(dǎo)電玻璃在產(chǎn)品成型之前需要對其進(jìn)行刻蝕加工,形成電路圖,光伏行業(yè)主要是劃線,做成一個個小單元的電極,增大電壓,無論哪一個應(yīng)用領(lǐng)域,都需要對其進(jìn)行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學(xué)刻蝕以及機(jī)械劃線等幾種方式,武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優(yōu)缺點(diǎn)以及重點(diǎn)介紹激光刻蝕機(jī)的選型。
化學(xué)刻蝕:優(yōu)點(diǎn)是加工速度快,一次成型,適合大面積加工;缺點(diǎn)是添加劑具有毒性,并且具有一定的污染性,操作流程相對復(fù)雜,對掩膜版要求高,不具備超精密微納結(jié)構(gòu)的加工能力。
等離子刻蝕:超細(xì)微精密刻蝕,刻蝕線寬達(dá)到納米級,精度高;缺點(diǎn)是成本高,對使用環(huán)境等諸多要素都有極高要求。
機(jī)械劃線:主要優(yōu)勢是成本低廉;缺點(diǎn)也顯而易見,對基材的損傷、線寬控制、精度控制、效果控制都不如其他加工,早期常應(yīng)用于光伏太陽能劃線。
激光刻蝕:分為干法刻蝕和黃光曝光兩種,黃光曝光的優(yōu)勢在于一次成型,精度高、刻蝕效果好、精細(xì),缺點(diǎn)是成本相對較高,具備污染性。干法刻蝕是指激光直接入射在材料表面無需任何添加劑,通過高能量的光束汽化材料,形成線路或斷路,相比較于其他幾種工藝,在導(dǎo)電玻璃行業(yè)中可謂星光熠熠,處處優(yōu)勢明顯,也是目前整個行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)最主流的機(jī)器。
激光刻蝕機(jī)
激光刻蝕機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是操作簡便,導(dǎo)入CAD或Gerber文件,通過振鏡偏轉(zhuǎn)、配合XY軸移動形成大面積的刻蝕成型,無耗材、無污染,刻蝕干凈,最小線寬可達(dá)到亞納米級別,目前武漢元祿光電普通振鏡掃描方式,導(dǎo)電ITO玻璃最小線寬在3微米,而在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)最小可達(dá)700nm線寬,特別適合于導(dǎo)電玻璃微納激光刻蝕。
激光刻蝕機(jī)用于導(dǎo)電玻璃行業(yè)中主要激光波段為1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機(jī)以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激光刻蝕機(jī),根據(jù)不同的應(yīng)用場景需求,配置不同的激光器,并且會根據(jù)實(shí)際需求選擇不同的光學(xué)器件,如掃描幅面、擴(kuò)束倍數(shù)、加工面積等條件。
一般來說,激光刻蝕機(jī)的參考選型主要參考因素是導(dǎo)電玻璃的材料、幅寬、線寬、線間距要求,至于說材料的厚度一般都是在幾百微米范圍內(nèi),有的甚至只有幾個納米,對于激光刻蝕機(jī)來說不難加工,主要還是看熱影響范圍區(qū)域,加工后的線寬、線間距以及線性直線度、加工精度以及誤差等影響。
因此確定激光刻蝕機(jī)的選擇需要明確以上幾點(diǎn),根據(jù)需求推薦對應(yīng)的機(jī)器類型,一般來說紅外1064納秒激光刻蝕機(jī)主要適用于20微米以上線寬的加工要求,飛秒激光刻蝕機(jī)主要適用于多層材料的導(dǎo)電玻璃激光刻蝕,如特殊需求仍需以實(shí)驗(yàn)試樣為準(zhǔn)。
推薦產(chǎn)品:飛秒激光刻蝕機(jī)
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